点击图片查看大图德国NanoPhotonics公司表面缺陷检测系统
产品概述
德国NanoPhotonics公司成立于1997年，其设备主要用于半导体生产中裸芯片表面，边缘，背面的沉积材料及基片的缺陷探测，可用于基板如检测掩模板（光罩）上的颗粒、划痕、缺陷、微米级粗糙度等。
产品特点
REFLEX TT桌上型手动缺陷检测系统
1. 65nm微粒灵敏度
2. 激光暗区域测量技术
3. 一级洁净环境
4. 可选晶圆工作台
5. 集成迷你PC和平板显示器
6. 离线分析
7. 工业标准
8. 自动化软件
1. 65nm微粒灵敏度
2. 激光暗区域测量技术
3. 一级洁净环境
4. 可选晶圆工作台
5. 集成迷你PC和平板显示器
6. 离线分析
7. 工业标准
8. 自动化软件
技术参数
适用不同底材和尺寸
-光罩基板尺寸:2.5"×2.5"—8"×8“
-晶圆尺寸:2"—12"
-光罩基板尺寸:2.5"×2.5"—8"×8“
-晶圆尺寸:2"—12"
应用材料
硅片、玻璃、复合半导体材料、透明薄膜、金属薄膜、单晶硅和多晶硅等